• Y. Hayakawa, K. Hayakawa, M. Inagaki, T. Kuwada, K. Nakao, K. Nogami, T. Sakai, I. Sato, Y. Takahashi, T. Tanaka
  日本大学 電子線利用研究施設
• T. Sakae
  日本大学 松戸歯学部

日大電子線利用研究施設(LEBRA)ではパラメトリックX線放射(PXR)に基づくX線源を運用しており、利用研究にエネルギー可変な単色X線ビームを供給している。これまではPXRの発生源となるターゲット結晶としてSi(111)面を用いてきたが、X線エネルギーの上限は20keVとなっていた。20keV以上のエネルギー領域に対応するために、ターゲット結晶およびX線輸送用の第2結晶をSi(220)に交換し、試験を行った。その結果、21〜33keVの領域でイメージングが可能であることを確認し、強度においてもSi(111)と比較して大きく劣ることはなかった。特にエネルギー33keVにおいてはヨウ素のK吸収端を利用した高コントラストイメージングに成功し、将来的な医療応用の可能性が示された。

• H. Nishiuchi, K. Saito, M. Tadokoro, F. Ebina, T. Aoki
  日立製作所
• T. Sakae, T. Terunuma
  筑波大学陽子線医学利用研究センター

粒子線治療の普及に伴い、患者毎の治療補助具が不要なスキャニング照射法の開発や散乱体照射法の高線量率化が求められている。これらの照射法に適用可能なビーム出射制御システムを開発した。まず、スキャニング照射法に好適なビームを供給するため、出射ビーム強度フィードバック制御技術を開発した。また、散乱体照射法での高線量率化を実現するため、蓄積ビームの利用効率を向上しかつ、出射ビームを安定に出力する制御技術（Dynamic Spill-gain Control, DSC）を開発した。二つの制御技術を適用したビーム出射制御システムを開発し、筑波大学陽子線医学利用研究センターでビーム試験を実施した。その結果、フィードバック制御により目標電流に対する時間平均出射電流の偏差±5%以内を達成し、DSCにより蓄積ビーム強度の変動±15％に対応した目標ビーム波形の強度補正によりビーム利用効率85％以上を達成した。